تجزیه و تحلیل ماسفت های تقویت و تخلیه

D-FET در بایاس دروازه 0 است که وجود کانال، می تواند FET را انجام دهد. E-FET در بایاس گیت 0 است وقتی کانالی وجود ندارد، نمی تواند FET را انجام دهد. این دو نوع FET ویژگی ها و کاربردهای خاص خود را دارند. به طور کلی، افزایش FET در مدارهای پرسرعت و کم مصرف بسیار ارزشمند است. و این دستگاه کار می کند، قطبیت بایاس گیت vo استltage و تخلیه ولتاژ همان، در طراحی مدار راحت تر است.

 

به اصطلاح به معنی افزایش یافته است: هنگامی که لوله VGS = 0 یک حالت قطع است، به علاوه VGS صحیح، اکثر حامل ها به سمت دروازه جذب می شوند، بنابراین حامل ها در منطقه "تقویت" می کنند و یک کانال رسانا را تشکیل می دهند. ماسفت بهبودیافته n-channel اساساً یک توپولوژی متقارن چپ-راست است که نیمه هادی نوع P در تولید لایه ای از فیلم SiO2 است. این یک لایه عایق از فیلم SiO2 بر روی نیمه هادی نوع P ایجاد می کند و سپس دو ناحیه از نوع N بسیار دوپ شده را به وسیله پخش می کند.فتولیتوگرافیو الکترودهایی را از ناحیه نوع N هدایت می کند، یکی برای تخلیه D و دیگری برای منبع S. لایه ای از فلز آلومینیوم روی لایه عایق بین منبع و تخلیه به عنوان دروازه G آبکاری می شود. زمانی که VGS = 0 V است. تعداد زیادی دیود با دیودهای پشت سر هم بین تخلیه و منبع وجود دارد و ولتاژ بین D و S جریانی بین D و S ایجاد نمی کند. جریان بین D و S توسط ولتاژ اعمال شده ایجاد نمی شود. .

 

هنگامی که ولتاژ دروازه اضافه می شود، اگر 0 < VGS < VGS(th)، از طریق میدان الکتریکی خازنی ایجاد شده بین دروازه و بستر، سوراخ های پلیون در نیمه هادی نوع P نزدیک به پایین دروازه به سمت پایین دفع می شوند. یک لایه نازک تخلیه از یون های منفی ظاهر می شود. در عین حال، الیگون های موجود در آن را برای حرکت به لایه سطحی جذب می کند، اما تعداد آنها برای تشکیل یک کانال رسانا که با زهکش و منبع ارتباط برقرار می کند، محدود و کافی نیست، بنابراین هنوز برای تشکیل شناسه جریان تخلیه کافی نیست. افزایش بیشتر VGS، زمانی که VGS > VGS (th) (VGS (th) ولتاژ روشن نامیده می شود)، زیرا در این زمان ولتاژ دروازه نسبتاً قوی بوده است، در لایه سطحی نیمه هادی نوع P در نزدیکی پایین دروازه در زیر تجمع بیشتر الکترون ها، می توانید یک ترانشه، زهکش و منبع ارتباط را تشکیل دهید. اگر ولتاژ منبع تخلیه در این زمان اضافه شود، جریان تخلیه را می توان ID تشکیل داد. الکترون ها در کانال رسانا زیر دروازه تشکیل می شوند، زیرا سوراخ حامل با قطبیت نیمه هادی نوع P مخالف است، بنابراین به آن لایه ضد نوع می گویند. همانطور که VGS همچنان در حال افزایش است، ID به افزایش ادامه خواهد داد. ID = 0 در VGS = 0V، و جریان تخلیه فقط بعد از VGS > VGS(th) رخ می دهد، بنابراین، این نوع ماسفت ماسفت افزایشی نامیده می شود.

 

رابطه کنترل VGS روی جریان تخلیه را می توان با منحنی iD = f(VGS(th))|VDS=const که منحنی مشخصه انتقال نامیده می شود و مقدار شیب منحنی مشخصه انتقال، gm، توصیف کرد. کنترل جریان تخلیه توسط ولتاژ منبع دروازه را منعکس می کند. بزرگی gm mA/V است، بنابراین gm رسانایی نیز نامیده می شود.